
Treffpunkt für CMP- und Wet‑Processing‑Expert:innen!
Das European CMP & WET User Group Spring Meeting 2026 findet am 23.–24. April 2026 in Halle (Deutschland) statt und gilt als zentrale Plattform für den fachlichen Austausch rund um Chemical Mechanical Polishing (CMP) und Wet Processing. Freuen Sie sich auf praxisnahe Fachvorträge, intensive Diskussionen und wertvolle Einblicke in aktuelle Herausforderungen und Innovationen der Halbleiter‑ und MEMS‑Fertigung.
Nutzen Sie diese einzigartige Gelegenheit, Ihr Know-how zu vertiefen und Ihr internationales Netzwerk gezielt auszubauen.
23. April 2026
| 12:30 Uhr - 13.30 Uhr | Arrival & Welcome |
| 13:30 Uhr - 15:30 Uhr | Technical Session |
| 15:30 Uhr - 16:00 Uhr | Networking Break & Exhibition |
| 16:00 Uhr - 18:00 Uhr | Technical Session |
| 18:00 Uhr - 19:00 Uhr | Networking & Exhibition |
| 19:00 Uhr | Network Dinner |
24. April 2026
| 08:30 Uhr - 09:00 Uhr | Welcome Coffee |
| 09:00 Uhr - 10:30 Uhr | Technical Session |
| 10:30 Uhr - 11:00 Uhr | Networking Break & Exhibition |
| 11:00 Uhr - 13:30 Uhr | Technical Session |
| 13:30 Uhr - 14:30 Uhr | Light Lunch |
Save the date: 23.04.2026 – 24.04.2026
Veranstalter:
European CMP & WET User Group Community